Semi-conducteurs : ASML acquiert Cymer pour pousser la lithographie EUV

Le groupe ASML, fabricant néerlandais de matériel de lithographie pour le compte de l’industrie des semi-conducteurs (impression des circuits intégrés sur des plaques très fines de silicium), rachète Cymer, un spécialiste américain de la photolithographie*.

Montant de la transaction : 1,95 milliard d’euros.

Concrètement, chaque actionnaire de Cymer recevra 20 dollars et 1,1502 action ordinaire ASML par titre Cymer.

L’acquisition, réalisée en cash et en actions, devrait être bouclée dans le courant du premier semestre 2013, selon le communiqué.

Avec cette opération de croissance externe, ASML veut se renforcer dans les technologies de lithographie EUV (extrême ultraviolet).

Celles-ci permettent de produire des puces plus puissantes et plus fonctionnelles pour les smartphones et tablettes de nouvelle génération.

Les deux sociétés avaient ouvert une collaboration il y a un an.

Coté à la Bourse d’Amterdam et sur le Nasdaq, ASML dispose d’un effectif de 8200 collborateurs dans le monde.

Au troisième trimestre, ASML a réalisé un chiffre d’affaires de 1,23 milliard d’euros et dégagé un résultat net de 274,7 millions d’euros (-22,7% sur un an) .

Selon Reuters, ASML a indiqué que son chiffre d’affaires du quatrième trimestre se situerait vers le bas de la fourchette d’estimations, autour d’un milliard d’euros, et il s’est refusé à livrer des prévisions pour 2013.

En tant que leader mondial des machines de gravure des semi-conducteurs (avec une part de marché de 75 à 80%), il exploite 55 unités de production dans 16 pays.

Les plus grands fabricants de puces (Intel, AMD, Sony, Samsung, NEC…) commandent leurs machines auprès d’ASML.

De son côté, Cymer, également présent sur le Nasdaq, affiche 1200 employés.

Sur le deuxième trimestre, la société américaine a réalisé un chiffre d’affaires de 150 millions de dollars (158 millions un an plus tôt) et un résultat net de 9,6 millions de dollars (27,7 millions de dollars l’an passé).

*Photolithographie : consiste à reproduire une image sur un substrat recouvert d’une couche de matériau (résine photosensible) – Source : LAAS